浮香笔阁>奇幻玄幻>陪嫁丑妃 > 一十八章 : D闪存技术!
    杨杰笑着道:“他们在IO输入输出接口设计上太想当然,没有考虑制备难度和🀟工序,DMA引擎设计不够精简,影响存取速度,校验算法效率不高导致坏区检验能力不足,颗粒使用时间长了以后数据会经常出错。”

    谭云松几乎要哭出来:“杨🐻🅃🃷少你怎么不早说?我还以为那个设计🌱很完美呢?韩🇯小龙前两天还在到处吹牛,说顶多流个七八次片就能试验成功。”

    “他们的研发思路是没有错,只要稍微修改一下设计😈⛀🗐,这样可以把制备流程缩短30%,生产成本会大幅下降,以后良品率也会🀜很容易上去。”

    “杨少你真是天才,一眼就看出了这里面的问题,连如何修改都想好了,有你这样的🈙⚛天才,我想国外那些闪存大厂要掉眼泪了。”

    杨杰哈哈笑一笑,老天爷好不容易让自己重生一回,自己手头上有大量的技术专利,不拿出利用🕗那简直太暴殄天物了!

    “我都怀♀疑杨少你上辈子是不是搞IC的?这辈子是带着记忆投胎?为什么有着如此多的想法?”

    “谭总你可是还科学家呢!怎🏧🜝🃌么还相信🚲🗒这一套!”🕇🇜

    谭云松笑了起来:“没办法🐻🅃🃷,国内在半导体产业上有着如🏟🛙此快速的提升,这就是一个奇迹呀!根本没办法用科学来解释。”🚢

    “这不是♀谭总最希望🔦🂸看到的结果么。”杨杰笑着道。😈⛀🗐

    次日,杨杰也是出现在了新蓝科技公司的研发中心,会议室里面坐满了公司研发部门的技🋘术工程师,中间还有二十多名的MI国的工程师。

    他指着投影屏幕上自制的PPT说道:“大家看啊,这个多晶硅栅下面是三层绝缘薄膜,这三层薄膜分别是隧穿氧化层、氮化硅、屏障氧化层,其中氮化硅具有极高的电子陷阱密🝞🌓度,可以捕获电子,达到存储电荷的目的,😻带电就是1,不带⚟💩🔡电就是0。”

    杨杰继续说道🖧:“氮化硅之前只是用在对底层金属实现覆盖,因为针孔📶🟔很少,对水汽和钠在氮化硅材料中扩散非常慢,这次我们将氮化硅注入沟道边沿。”

    他看到众人都是露出了困惑的表情,笑着解释道:🕇🇜“我们都知道半导体中有两种载流子,一种是电子,一种是空穴,在对单元进行写入操作时,采用热电子注入法,将🋌🗷☬热电子注入沟道边缘的氮化硅,这样就完成了写入过程,在作擦除时🂮,利用价带间的空穴,将空穴注入沟道边缘的氮化硅,消除电荷,就完成了擦除。

    “由于氮化硅的绝缘性,热电子效应产生♳🌟⛻的电子只能被注入并限制在沟道边缘。正是这样,两侧沟道一🄫🀤⚗旦全部带电就是11,全部不带电就是00,但是我们一旦把两侧沟🜑🁙道其中一侧进行单独擦除,就会出现四种情况,一种是01,一种是10,于是我们就在不进行复杂工艺改变的前提下,让现有的闪存容量增加了一倍。”

    “在这个基础上,我们可以今后发展出多电压控制栅极多层注入电荷技术产品,实现多层的堆叠,可以用这种技术在现🃠🙏有的制程工艺上最大限度地增加闪存的容量,而不是完全依靠制程工艺的提升,这也大大地降低了闪存的成本。”

    听到这里,会议室里一🔖片😒🀸🁨哗然,众人都是无比惊喜,韩小龙此时激动地鼓掌,随后大家都是跟着用力地鼓起掌来。

    “🜝🃈杨少你太神🖧了!我们得赶紧实验🎜!赶紧写论文申请专利!”韩小龙激动地说道。